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Unlock_ALD程序,用于解锁由 Adobe 产品
Unlock_ALD程序,用于解锁由 Adobe 产品 Unlock_ALD是一个程序，用于解锁由 Adobe 产品(如 LiveCycle Designer 或 InDesign)创建的 PDF 表单文件。如果 PDF 表单被非 Adobe 应用程序更改或修改，它可能会生成错误，将其还原为简单文档。 Unlock_ALD 有一个用于 UI1415329-20-2，Ald-CH2-PEG4-t-butyl ester，CHO-PEG4-COOtBu
英文名称：Ald-CH2-PEG4-t-butyl ester CHO-PEG4-COOtBu 化学式：C15H28O7 分子量：320.4 CAS：1415329-20-2 纯度：95% 储存条件：-20°C 运输：环境温度 结构式： Ald-CH2-PEG4-叔丁酯是一种与含氨基氧基的分子反应的PEG连接剂。可在酸性条件下去除叔丁酯以进一步共轭。 其他列表：882518-89-0，Tos-PEG3-CH2CO2tBu修饰基团包括DSPE、NH2、COOH、MAL、OH、SH等
英文名称：Tos-PEG3-CH2CO2tBu 化学式：C17H26O7S 分子量：374.5 CAS：882518-89-0 纯度：95% 储存条件：-20°C 溶解性：DMSO、DCM、DMF 运输：环境温度 结构式： 陕西新研博美生物科技有限公司常规修饰性聚乙二醇，非常规基团修饰性聚乙二醇（PEG）定制合成，修饰基团包括（DSPE、NH2、COOH、MAL、OH、SHAtomic Layer Deposition原子层沉积技术
Atomic Layer Deposition原子层沉积技术 原子层沉积技术（Atomic Layer Deposition）是一种原子尺度的薄膜制备技术。可以沉积均匀一致，厚度可控、成分可调的超薄薄膜。随着纳米技术和半导体微电子技术的发展，器件和材料的尺寸要求不断地降低，同时器件结构中的宽深比不断增加，要求所使用材ALD技术，相机去噪，图像传感器
ALD技术，相机去噪，图像传感器 1. 作为镜片的防反射涂层技术被关注的ALD（atomic layer deposition）的引入趋势。 （a）为什么需要一种新的防止反射的涂层技术？ ALD被认为是最有前途的防止反射的涂层技术吗？ 原子层沉积（ALD）是将物质以单原子膜形式一层一层镀在基底表面的技术。原子层沉积是化学CVD和ALD薄膜沉积技术应用领域
CVD和ALD薄膜沉积技术应用领域 显示 用于OLED、QD-OLED、甚至未来QLED的薄膜封装，通过有机/无机叠层结构的保护，水汽渗透率WVTR可降至10-5g/m2/day，保证OLED或者量子点发光材料的稳定。另外量子点光学膜QDEF也需要WVTR小于0.1的阻隔膜，保护量子点不受水氧破坏。 微电子 在包括miniL原子层沉积（ALD）和化学气相沉积（CVD）微电子制造铜金属化的研究进展
原子层沉积（ALD）和化学气相沉积（CVD）微电子制造铜金属化的研究进展 Atomic Layer Deposition (ALD) and Chemical Vapor Deposition (CVD) of Copper-based Metallization for Microelectronic FabricationCVD-ALD前驱体材料
CVD-ALD前驱体材料 ALD前驱体源瓶特点是什么 ALD前驱体源瓶（起泡器）用于固态、液态及气态超纯物料类的封装，涉及微正压、常压、中低压的危险化学品，对源瓶的安全性和洁净度提出严苛的要求。 ALD前驱体源瓶特点： 所有管件采用316L不锈钢，内部经400目机械抛光和电化学抛光，Ra原子层沉积技术
原子层沉积技术 原子层沉积技术 原子层沉积，ALD 是一种适合于研制最新的和前沿性的产品的薄膜制备技术。原子层沉积 ALD 也是一种用于纳米技术研究的有效方法。典型的原子层沉积应用是在各种尺寸和形状的基底上沉积高精度、无针孔、高保形的纳米薄膜。针对目前的市场需要，Beneq 通过