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英特尔和阿斯麦：墨守成规还是大胆创新? | 经济学人全球早报精选
文 / 王不留（微信公众号：考研英语笔记） 2021年10月21号的清晨，来杯“经济学人浓香咖啡”，提神解困。 When the chips are down: ASML and Intel results The semiconductor industry is in the midst of what one analyst calls the “mother of all cycles”. On WednesdEUV极紫外光刻技术
EUV极紫外光刻技术 （1）极紫外光 波长为 13.5nm 的极紫外 (EUV) 光刻系统的最新发展，以取代 193i 光刻。为了应对多图案成本上升的趋势，EUV 系统在曝光吞吐量（每小时晶圆数），曝光强度和系统正常运行时间方面已达到生产状态。 如上图所示，业界正在积极开展研发工作，以发布第二代 EUVEUV光刻机市场与技术
EUV光刻机市场与技术 EUV光刻机市场 EUV光刻机已经成为芯片制造的支柱，台积电和三星等晶圆厂这几年不断追逐5nm和3nm等先进工艺，本身就是EUV光刻机采购大户，再加上现在这几大晶圆厂纷纷扩产建厂，无疑又加大了对EUV光刻机的需求。 除了晶圆厂等逻辑厂商之外，存储厂商也逐渐来到光刻机采光刻机技术领地
光刻机技术领地 上海微电子装备(集团)股份有限公司(简称SMEE)主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。 SMEE致力于以极致服务，造高