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硅片与光刻胶技术
硅片与光刻胶技术 参考文献链接 https://mp.weixin.qq.com/s/g5U94RTJ44fbi4kxC0ptBg https://mp.weixin.qq.com/s/xMVKwZY3yviSV0G1yHukpg 半导体硅片 半导体材料是一类具有半导体性能（导电能力介于导体与绝缘体之间）、可用来 制作半导体器件和集成电路的电子材料，是半导体工业的基2021-2027全球及中国光刻掩膜版行业研究及十四五规划分析报告
2020年，全球光刻掩膜版市场规模达到了XX百万美元，预计2027年可以达到XX百万美元，年复合增长率(CAGR)为XX% (2021-2027)。中国市场规模增长快速，预计将由2020年的XX百万美元增长到2027年的XX百万美元，年复合增长率为XX% (2021-2027)。 本报告研究“十三五”期间全球及中国市场光刻掩2021-2027中国光刻掩膜版市场现状及未来发展趋势
2020年中国光刻掩膜版市场规模达到了XX亿元，预计2027年可以达到XX亿元，未来几年年复合增长率(CAGR)为XX% (2021-2027)。 本报告研究中国市场光刻掩膜版的生产、消费及进出口情况，重点关注在中国市场扮演重要角色的全球及本土光刻掩膜版生产商，呈现这些厂商在中国市场的光刻掩膜版销EUV极紫外光刻技术
EUV极紫外光刻技术 （1）极紫外光 波长为 13.5nm 的极紫外 (EUV) 光刻系统的最新发展，以取代 193i 光刻。为了应对多图案成本上升的趋势，EUV 系统在曝光吞吐量（每小时晶圆数），曝光强度和系统正常运行时间方面已达到生产状态。 如上图所示，业界正在积极开展研发工作，以发布第二代 EUVEUV光刻机市场与技术
EUV光刻机市场与技术 EUV光刻机市场 EUV光刻机已经成为芯片制造的支柱，台积电和三星等晶圆厂这几年不断追逐5nm和3nm等先进工艺，本身就是EUV光刻机采购大户，再加上现在这几大晶圆厂纷纷扩产建厂，无疑又加大了对EUV光刻机的需求。 除了晶圆厂等逻辑厂商之外，存储厂商也逐渐来到光刻机采存档-西安电子科技大学微电子学院生产实习报告
一、工艺原理 1.氧化 硅（Si)晶圆与含有氧化物质的气体，例如水汽和氧气在高温下进行化学反应，而在硅片表面产生一层致密的二氧化硅(SiO2)薄膜。 氧化工艺是将硅片置于通有氧气气氛的高温环境中(常用的温度为900～1200℃，在特殊条件下可降到600℃以下)，氧气或水汽通过反应管（典型的气流速度台积电5nm光刻技术
台积电5nm光刻技术 在IEEE IEDM会议上，台积电发表了一篇论文，概述了其5nm工艺的初步成果。对于目前使用N7或N7P工艺的客户来说，下一步将会采用此工艺，因为这两种工艺共享了一些设计规则。新的5nm制程使用了台积电的第五代FinFET技术，在7纳米基础上提供一个完整的工艺节点，并使用魂迁光刻，梦绕芯片，中芯国际终获ASML大型光刻机
据羊城晚报报道，近日中芯国际从荷兰进口的一台大型光刻机，顺利通过深圳出口加工区场站两道闸口进入厂区，中芯国际发表公告称该光刻机并非此前盛传的EUV光刻机，主要用于企业复工复产后的生产线扩容。 我们知道EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中[转帖]什么是EUV光刻机？为什么大家都在追求它？
什么是EUV光刻机？为什么大家都在追求它？ https://www.expreview.com/72965.html 近些年来EUV光刻这个词大家应该听得越来越多，三星在去年发布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工艺打造的芯片，台积电的7nm+也是他们首次使用EUV光刻的工艺，苹果的A13和华为麒麟990[转帖]从光刻机的发展，看懂ASML为何是不可取替
从光刻机的发展，看懂ASML为何是不可取替 http://mini.eastday.com/mobile/171230223351249.html# 2017-12-30 22:33 来源：半导体行业观察 阿斯麦(ASML.O)是全球最大的半导体光刻机设备及服务提供商，在细分领域具备垄断地位。总部位于荷兰费尔德霍芬(Veldhoven)，是飞